第102章 造手机天工成立 谈设备尼炕来人(第3/3 页)

袁旭的计划里，芯片生产自然首选是代工了，这也是目前国际上越来越常见的模式，芯片发展遵循的摩尔定律，制程也随之不断进化，单一设计生产的厂家越来越难以负担产线升级或者换代所需的资金，而专业的芯片代工厂家，可以集中订单，分摊产线升级或者换代带来的成本。

当然，在袁旭准备的plan B中，自建生产厂也在其中。

于是，心大的袁旭就随口吩咐宋瑞，先向光刻机的这几家生产厂家发个函，问问看光刻机什么价钱，同时，如果自己要建一座厂的话，该如何配套。

宋瑞的问询函发出后第三日，樱花国的尼炕就主动联系了过来，而且主动约好了见面详谈。

前几年在先进制程的发展方向上，尼炕选错了。

九十年代末，光刻机的技术，已经发展到了193纳米ArF准分子激光，这一制程，一直无法突破，米国的SVG，樱花国的尼炕等，选择了基于前一代的干式光刻法，选择了看起来更稳妥的157纳米的F2激光，但是，尝试失败了。

而在2002年，来自湾湾的工程师林本间，提出了一种基于193纳米波长，但改变干式光刻为浸润式光刻工艺，也就是在光刻胶上方加上一层薄薄的水，来把193纳米波长折射成134纳米，一下子突破了157纳米的难关。

这种技术，被ASML所使用，这几年的时间里，先进制程的光刻机市场，基本都被ASML所垄断。

光刻机作为芯片制造的上游产业，销售市场非常狭窄，销量也十分有限，当时一家的年销量也不过几十台，但是光刻机又是一个需要巨额资金持续投入研发、持续更新迭代的高精尖技术，而且随着芯片制程越小，技术难度又呈现指数级增加。

尼炕是一步慢步步慢，市场份额不断降低。

因此，当来自华夏的咨询函一到，就引起了尼炕方面的高度重视，尽管基于《瓦森纳协议》，禁止向华夏出售或者转让先进高科技技术和先进材料等，但是，尼炕方面认为，目前的DUV光刻机，已经不再是最先进的高科技技术了，因为ASML方面更先进的EUV光刻机已经研发完毕了。

对于尼炕的热情，袁旭自然是全盘接受了。

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